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磁控濺射BC贷官方网站鍍膜薄膜均勻性如何控制

來源:www.roamsky.net發表時間:2021-06-08

   磁控濺射BC贷官方网站鍍膜基材,商家往往會考慮其工藝是否符合其需求,以及鍍好的成品,膜層均勻性如何控制,市場上有很多産品對鍍膜薄膜均勻性要求非常高,如市場上的電子産品,機械零部件,以及一些其它日常應用品等等,對薄膜要求均勻性都非常高,因此很多商家采購磁控濺射鍍膜機時候,都會比較關注這一系列問題。
   磁控濺射BC贷官方网站鍍膜薄膜均勻性是一項重要指標,因此有必要研究影響磁控濺射均勻性的影響因素,以便更好的實現磁控濺射均勻鍍膜。簡單的說磁控濺射就是在正交的電磁場中,閉合的磁場束縛電子圍繞靶面做螺旋運動,在運動過程中不斷撞擊工作氣體氩氣電離出大量的氩離子,氩離子在電場作用下加速轟擊靶材,濺射出靶原子離子(或分子)沈積在基片上形成薄膜。所以要實現均勻的鍍膜,就需要均勻的濺射出靶原子離子(或分子),這就要求轟擊靶材的氩離子是均勻轟擊的。由于氩離子是在電場作用下加速轟擊靶材,所以要求電場均勻。但是實際的磁控濺射裝置中,某些因素都是很難完全絕對的均勻,這就有必要研究他們不均勻對成膜均勻性的影響。實際上磁場的均勻性和工作氣體的均勻性是影響成膜均勻性的最主要因素。磁場大的位置膜厚,反之膜薄,磁場方向也是影響均勻性的重要因素。氣壓方面,在一定氣壓條件下,氣壓大的位置膜厚,反之膜薄。
    日常BC贷官方网站也會見到磁控濺射BC贷官方网站鍍膜薄膜出現不均勻的問題,一般BC贷官方网站處理方法,時首先是要盡量保證磁場的均勻性和方向一致性,形成一個相對均勻的空間磁場。然後,要盡量保證氣壓上下的均勻性,真空腔體設計時,要考慮真空泵的安裝位置,和工藝氣體進氣方式以及腔體內工藝氣管的布局。最後由于磁場和氣壓都不可能絕對理想,那麽就可以通過氣壓的不均勻來補償磁場不均勻,讓最終薄膜均勻一致。最後,靶基距也是影響濺射鍍膜薄膜均勻性的重要因素

  

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